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功能材料-刘春忠
2021-06-01 21:14  

教师信息

姓名

刘春忠

性别

 

职称

教授

学历

博士研究生

电话



Email

czliu@sau.edu.cn

地址

辽宁省沈阳市道义南大街37

邮编

110136

Ø 教育经历

(1)2001/03-2005/06,中科院金属研究所,沈阳材料科学国家(联合)实验室非平衡材料研究部,博士,导师:卢柯。

(2) 1994/09 -1996/07,哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,硕士,导师:崔忠圻。

(3)  1986/09 -1990/07,山东大学,物理系,本科。

Ø 工作经历

(1) 2005/07-至今,沈阳航空航天大学,材料科学与工程学院,副教授,教授,院长。

(2) 2009/06/2012/06 中航工业沈阳飞机工业有限公司(中科院金属研究所),博士后,  合作导师:蔡桂林 马宗义

(3) 1990.07-2001.03 航空工业哈尔滨飞机工业集团公司,高级工程师

 

Ø 研究方向

(1) 航空铝合金

(2) 电磁功能材料

Ø 授课情况

(1) 《固体物理基础》

(2) 《功能材料导论》

(3)《位错与金属强化机制》

Ø 承担科研项目情况

1.省重大专项:航空用大型高精度段环挤压结构件的研发及产业化,2019.01-2021.06  1000万,在研,主持

2.航空基金项目,第三代Al-Li合金阳极氧化工艺优化及机制探讨,2015ZF54035 2015.10-2017.10, 10万 ,结题,主持

3. 企业横向课题, 低密度高刚度铝基复合材料口盖试验件制造,沈阳601所2015/04-2015/09,25万,主持。

4. 企业横向课题,某军机用铝合金挤压棒材产品开发,忠旺集团xy2016056 ,2015/12-2016/06,30万,结题,主持。

5.企业横向课题, 低密度高刚度铝基复合材料口盖试验件实验,沈阳601所2015/04-2015/09,10万,结题,主持。

6. W/Zr基非晶合金复合材料的结构与性能表征,中科院金属所,2015/04-2015/04,10万,结题,主持。

7. 铝锂合金表征,2010-2012/19.5万,主持,沈飞公司

8. 钛合金热加工模拟,2012-2013/17.5万,主持,沈飞公司

9. 热加工对铝锂合金组织性能的影响 省科技厅,2009-2012, 30万,主持。

10. 铝锂合金设计加工技术研究,1700万,主要完成人,中航工业 2009-2012

 

 

Ø 代表性论著

[1] C.Z. Liu, T.Y. Kang, W. Wei, K. Zheng, L. Fu, L. Hui, J.J. Wang, W.P. Tong, Effect of high intensity magnetic field on intermetallic compounds growth in SnBi/Cu microelectronic interconnect, J. Alloy. Compd., 509 (2011) 8475–8477. SCI

[2] T.Y. Kang, Y.Y. Xiu, L. Hui, J.J. Wang, W.P. Tong, C.Z. Liu, Effect of bismuth on intermetallic compound growth in lead free solder/Cu microelectronic interconnect, J. Mater. Sci. Technol., 2011, 27(8), 741-745. SCI

[3] T.Y. Kang, Y.Y. Xiu, C.Z. Liu, L. Hui, J.J. Wang, W.P. Tong, Bismuth segregation enhances intermetallic compound growth in SnBi/Cu microelectronic interconnect, J. Alloy. Compd., 509 (2011) 1785–1789. SCI

[4] C.Z. Liu, W. Zhang, Bismuth redistribution induced by intermetallic compound growth in SnBi/Cu microelectronic interconnect  J. Mater. Sci., 44 (1),(2009), 149-153 SCI

[5] Q.S. Zhu; X. Zhang; S.J. Li; C.Z. Liu*; C.F. Li, Electrodeposition of nano-twinned Cu in void-free filling for blind microvia of high density interconnect, Journal of The Electrochemical Society, 2018, 166(1): D3097-D3099

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